• Thứ Hai, 21/04/2008 12:19 (GMT+7)

    IBM: Công nghệ mới giúp chip mạnh hơn

    Công nghệ “high-k/metal gate” mới làm tăng hiệu năng của các chip được sản xuất bằng quy trình 32nm lên 30%, đồng thời giảm năng lượng tiêu thụ đi 50%.

    Hôm 14/4/2008 IBM trình diễn công nghệ làm tăng hiệu năng, đồng thời giảm năng lượng tiêu thụ của các chip được sử dụng trong những thiết bị từ điện thoại di động tới máy chủ hiệu năng cao.

    Công nghệ có tên gọi là “high-k/metal gate” này làm tăng hiệu năng của các chip được sản xuất bằng quy trình 32nm lên 30%, đồng thời giảm năng lượng tiêu thụ đi 50%. Số liệu trên có được do IBM chạy kiểm nghiệm và so sánh với những chip được sản xuất bằng quy trình 45nm hoạt động với cùng mức điện áp .

    Ví dụ, khi so một chip 45nm hoạt động ở điện áp 1,1V với chip 32nm có công nghệ “high-k/metal gate” thì tốc độ tăng lên 24% và giảm mức năng lượng tiêu thụ 40%, giám đốc Mukesh Khare của chi nhánh Microelectronics Division trong IBM cho biết. Nếu điện áp giảm xuống còn 0,95V thì tốc độ tăng 18% và năng lượng tiêu thụ giảm tới 45%.

    Ông Khare cho biết, IBM chuẩn bị đưa ra bộ công cụ đánh giá bao gồm nhiều model chip và giới thiệu cho khách hàng biết, những chip dùng công nghệ “high-k/metal gate” được thiết kế như thế nào. Công nghệ “high-k/metal gate” sử dụng vật liệu để làm giảm điện rò ra khỏi chip. IBM có kế hoạch sản xuất hàng loạt chip 32nm với công nghệ “high-k/metal gate” vào cuối 2009 .

    Để các thiết bị tính toán càng tiết kiệm năng lượng và tăng cường hiệu năng thì nhà sản xuất chip phải nâng cấp công nghệ sản xuất cho phù hợp . Năm 2007, Intel bắt đầu kết hợp công nghệ “high-k/metal gate”khi bắt đầu sản xuất chip 45nm . AMD lại không dùng công nghệ “high-k/metal gate”cho chip của họ .

    Thông báo được IBM đưa ra với các đối tác của mình như: Chartered Semiconductor, Freescale Semiconductor, Infineon Technologies, Samsung, STMicroelectronics và Toshiba.

    Bạch Đình Vinh
    Theo IDG News Service, 14/4/2008

    ID: O0804_1